南方科技大学知识苑(SUSTech KC): 纳米结构的制作方法

题名	纳米结构的制作方法
发明人	段天利; 王尧; 马续航; 张锐; 瞿学选
申请号	201910171605.X
申请日期	2019-03
专利状态	申请中
专利类型	发明专利
学校署名	第一
摘要	本发明涉及一种纳米结构的制作方法。该方法包括如下步骤：绘制版图，版图设有曝光区域和非曝光区域，在非曝光区域中设置辅助曝光区；使用正性电子抗蚀剂在衬底上形成抗蚀层；根据版图对抗蚀层进行曝光处理，然后进行显影处理，得到具有图案的抗蚀层，其中，曝光处理的步骤中，辅助曝光区的曝光剂量小于曝光区域的曝光剂量，以使抗蚀层对应辅助曝光区的区域形成凹槽；在具有图案的抗蚀层上形成金属层，得到层叠件；使用去胶试剂清洗层叠件以去除抗蚀层，得到纳米结构。上述纳米结构的制作方法能够使图形较易剥离且得到的图形完整。
专利权人	南方科技大学
授权国家	中国
语种	中文
来源库	人工提交
成果类型	专利
条目标识符	http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/125970
专题	公共分析测试中心
作者单位	南方科技大学
推荐引用方式 GB/T 7714	段天利,王尧,马续航,等. 纳米结构的制作方法.