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题名

E-mode p-GaN Gate HEMT with p-FET Bridge for Higher VTHand Enhanced VTHStability

作者
通讯作者Hua,Mengyuan
DOI
发表日期
2020-12-12
ISSN
0163-1918
ISBN
978-1-7281-8889-8
会议录名称
卷号
2020-December
页码
23.1.1-23.1.4
会议日期
12-18 Dec. 2020
会议地点
San Francisco, CA, USA
摘要
a novel p-GaN gate topology is proposed to inherently increase threshold voltage (VTH) and enhance VTH stability. The gate consists of a conventional Schottky-type p-GaN gate and a normally-on p-channel FET bridge connecting source and gate. By modulating the VTH of the p-channel FET, a wide-range positive VTH from 3.6 V to 8.2 V can be achieved without subthreshold voltage degradation. Owing to the well-grounded p-GaN through the normally-on p-FET channel, a stable VTH is also achieved without sacrificing the low gate leakage and large gate swing enabled by the Schottky gate metal/p-GaN contact.
关键词
学校署名
第一 ; 通讯
语种
英语
相关链接[Scopus记录]
收录类别
EI入藏号
20211310129592
EI主题词
Gallium nitride ; III-V semiconductors ; Threshold voltage
EI分类号
Electricity: Basic Concepts and Phenomena:701.1 ; Semiconductor Devices and Integrated Circuits:714.2
Scopus记录号
2-s2.0-85102957357
来源库
Scopus
全文链接https://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?tp=&arnumber=9371969
引用统计
被引频次[WOS]:18
成果类型会议论文
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/221865
专题南方科技大学
工学院_电子与电气工程系
作者单位
1.Southern University of Science and Technology,Department of EEE,Shenzhen,China
2.Peking University,Institute of Microelectronics,Beijing,China
3.The Hong Kong University of Science and Technology,Department of ECE,Hong Kong,Hong Kong
第一作者单位南方科技大学
通讯作者单位南方科技大学
第一作者的第一单位南方科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
Hua,Mengyuan,Chen,Junting,Wang,Chengcai,et al. E-mode p-GaN Gate HEMT with p-FET Bridge for Higher VTHand Enhanced VTHStability[C],2020:23.1.1-23.1.4.
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