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题名

Characterization of trap behaviors in AlGaN/GaN MIS-HEMT via Transient Capacitance Measurement

作者
通讯作者Yu, Hong-yu
DOI
发表日期
2016
会议录名称
页码
1053-1055
会议地点
Hangzhou, China
出版地
345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA
出版者
摘要
Transient capacitance measurement is used to study the trap behaviors in AlGaN/GaN MIS-HEMTs: 1) By measuring transfer characteristics before and after the pulse cycles applied on the gate electrode in AlGaN/GaN MIS-HEMTs, the threshold voltage (V-th) instability induced by the gate pulse is investigated; 2) The change of trap density before and after step-stress applied on drain electrode is also quantitatively analyzed.
学校署名
第一 ; 通讯
语种
英语
相关链接[来源记录]
收录类别
资助项目
Energy-efficient Si based GaN power devices Project[KQCX20140522151322946]
WOS研究方向
Engineering
WOS类目
Engineering, Electrical & Electronic
WOS记录号
WOS:000478951000296
EI入藏号
20173604123465
EI主题词
Aluminum gallium nitride ; Capacitance ; Capacitance measurement ; Electrodes ; Gallium nitride ; High electron mobility transistors ; III-V semiconductors ; Integrated circuits ; Refractory metal compounds ; Threshold voltage
EI分类号
Electricity: Basic Concepts and Phenomena:701.1 ; Semiconductor Devices and Integrated Circuits:714.2 ; Organic Compounds:804.1 ; Inorganic Compounds:804.2 ; Electric Variables Measurements:942.2
来源库
Web of Science
引用统计
被引频次[WOS]:1
成果类型会议论文
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/24872
专题工学院_电子与电气工程系
作者单位
1.South Univ Sci & Technol China, Dept Elect & Elect Engn, Shenzhen 518055, Peoples R China
2.Enkris Semicond Inc, Suzhou 215123, Peoples R China
第一作者单位电子与电气工程系
通讯作者单位电子与电气工程系
第一作者的第一单位电子与电气工程系
推荐引用方式
GB/T 7714
Dong, Bin,Lin, Jie,Wang, Ning,et al. Characterization of trap behaviors in AlGaN/GaN MIS-HEMT via Transient Capacitance Measurement[C]. 345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA:IEEE,2016:1053-1055.
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