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题名

Impact of OFF-state Gate Bias on Dynamic R-ON p-GaN Gate HEMT

作者
通讯作者Hua, Mengyuan
DOI
发表日期
2021-05-30
会议名称
33rd International Symposium on Power Semiconductor Devices and ICs (ISPSD)
ISSN
1063-6854
ISBN
978-1-7281-8985-7
会议录名称
卷号
2021-May
页码
47-50
会议日期
MAY 30-JUN 03, 2021
会议地点
null,Nagoya,JAPAN
出版地
345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA
出版者
摘要

In this work, the impacts of OFF-state gate bias (V-GS,V-OFF) on the dynamic on-resistance (R-ON) are investigated in the commercial Schottky-type p-GaN gate high-electron-mobility transistor (HEMT). A more negative V-GS,V-OFF could aggravate the dynamic R-ON degradation, especially when switching with a large OFF-state drain bias. In addition, the dependence of dynamic R-ON on the high drain bias also varies with V-GS(,OFF). The underlying mechanism is suggested to be associated with the generation and movement of holes, which are both strongly affected by V-GS(,OFF).

关键词
学校署名
第一 ; 通讯
语种
英语
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收录类别
WOS研究方向
Computer Science ; Engineering
WOS类目
Computer Science, Hardware & Architecture ; Engineering, Electrical & Electronic
WOS记录号
WOS:000684581000011
EI入藏号
20213310782713
EI主题词
Gallium nitride ; III-V semiconductors ; Integrated circuits ; Wide band gap semiconductors
EI分类号
Semiconductor Devices and Integrated Circuits:714.2
Scopus记录号
2-s2.0-85112530910
来源库
Web of Science
全文链接https://ieeexplore.ieee.org/stamp/stamp.jsp?tp=&arnumber=9452256
引用统计
被引频次[WOS]:0
成果类型会议论文
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/253419
专题工学院_电子与电气工程系
作者单位
1.Southern Univ Sci & Technol, Dept Elect & Elect Engn, Shenzhen, Peoples R China
2.Hong Kong Univ Sci & Technol, Dept Elect & Comp Engn, Hong Kong, Peoples R China
第一作者单位电子与电气工程系
通讯作者单位电子与电气工程系
第一作者的第一单位电子与电气工程系
推荐引用方式
GB/T 7714
Jiang, Zuoheng,Hua, Mengyuan,Huang, Xinran,et al. Impact of OFF-state Gate Bias on Dynamic R-ON p-GaN Gate HEMT[C]. 345 E 47TH ST, NEW YORK, NY 10017 USA:IEEE,2021:47-50.
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