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题名

砷化镓晶圆用除氧托盘

发明人
第一发明人
王干
申请人
南方科技大学
第一申请人
南方科技大学
第一申请人地址
518055 广东省深圳市南山区西丽镇学苑大道1088号南方科技大学
当前申请人
南方科技大学
当前申请人地址
518055 广东省深圳市南山区西丽镇学苑大道1088号南方科技大学 (广东,深圳,南山区)
当前第一申请人
南方科技大学
当前第一申请人地址
518055 广东省深圳市南山区西丽镇学苑大道1088号南方科技大学 (广东,深圳,南山区)
申请号
CN201611116809.6
申请日期
2016-12-07
公开(公告)号
CN106653664B
公开日期
2019-11-15
授权日期
2019-11-15
专利状态
授权
法律状态日期
2019-11-15
专利类型
授权发明
学校署名
第一
摘要
本发明涉及一种砷化镓晶圆用除氧托盘。该砷化镓晶圆用除氧托盘包括底座和定位组件;底座开设有贯通底座且用于安装砷化镓晶圆的安装孔,安装孔的侧壁上设有限位凸起;定位组件能够与底座固定连接,且定位组件与限位凸起能够分别与砷化镓晶圆的相对的两个表面的边缘相抵接而夹持固定砷化镓晶圆;其中,底座和定位组件的熔点均在1000℃以上。上述砷化镓晶圆用除氧托盘能够简化砷化镓晶圆的除氧工艺的操作、提高除氧效率且能够较为稳固地固定砷化镓晶圆。
其他摘要
The invention relates to a deoxygenizing pallet for a gallium arsenide wafer. The pallet comprises a pedestal and a positioning assembly. The pedestal is provided with a through pedestal, and an installation hole for installing the gallium arsenide wafer. A side wall of the installation hole is provided with a limiting projection. The positioning assembly can be fixedly connected with the pedestal, and the positioning assembly and the limiting projection can respectively abut against the edges of the two opposite surfaces of the gallium arsenide wafer, thereby clamping and fixing the gallium arsenide wafer. The melting points of the pedestal and the positioning assembly are higher than 1000 DEG C. The pallet can simplify the operation of the deoxygenizing technology of the gallium arsenide wafer, improve the deoxygenizing efficiency, and can fix the gallium arsenide wafer more stably.
CPC分类号
H01L21/67333 ; H01L2221/683
IPC 分类号
H01L21/673
INPADOC 法律状态
(+PATENT GRANT)[2019-11-15][CN]
INPADOC 同族专利数量
1
扩展同族专利数量
1
专利代理人
潘霞
代理机构
广州华进联合专利商标代理有限公司
相关链接[来源记录]
来源库
PatSnap
成果类型专利
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/338482
专题理学院_物理系
推荐引用方式
GB/T 7714
王干,赵玉华. 砷化镓晶圆用除氧托盘[P]. 2019-11-15.
条目包含的文件
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