题名 | 硒化铟薄膜的制备及薄膜晶体管器件应用 |
其他题名 | THE PREPARATION OF INDIUM SELENIDE THIN FILM AND THE APPLICATION OF INDIUM SELENIDE THIN FILM TRANSISTOR
|
姓名 | |
学号 | 11749113
|
学位类型 | 硕士
|
学位专业 | 材料科学与工程
|
导师 | |
论文答辩日期 | 2019-06-01
|
论文提交日期 | 2019-07-13
|
学位授予单位 | 哈尔滨工业大学
|
学位授予地点 | 深圳
|
摘要 | 在2010年,Geim博士由于其在2004年通过机械剥离的方法制作出了二维单层石墨烯的工作而一举斩获了诺贝尔物理学奖掀起了二维材料的研究浪潮。然而由于石墨烯零带隙的性质严重限制了其在微电子器件与光电子器件领域的应用。与石墨烯类似,硒化铟是典型的Ⅲ-Ⅵ的层状的半导体材料,块材的硒化铟表现出了在大气环境下的良好的稳定性,很高的载流子迁移率以及很高的光吸收率,在微电子与光电子器件领域具有巨大的应用潜力,但是目前为止,制备的硒化铟的光电子与微电子器件主要是基于机械剥离法所得到的单层或少层二维硒化铟薄膜,虽然制备出的器件具有十分优秀的性能,但是由于材料主要是基于机械剥离法所获得的,故而其必然具有很强的随机性、很低的效率以及很低的产率,从而难以进行规模化的生产与应用。 |
其他摘要 | In 2010, Dr. Geim seized the Nobel Prize in Physics for his work on two-dimensional graphene crystals in 2004. This work made the 2D material research become very popular all over the world. However, due to the nature of the zero-band gap of graphene, its application in the field of microelectronic devices and optoelectronic devices is severely limited. |
关键词 | |
其他关键词 | |
语种 | 中文
|
培养类别 | 联合培养
|
成果类型 | 学位论文 |
条目标识符 | http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/38744 |
专题 | 工学院_材料科学与工程系 |
作者单位 | 南方科技大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 |
朴英哲. 硒化铟薄膜的制备及薄膜晶体管器件应用[D]. 深圳. 哈尔滨工业大学,2019.
|
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | 操作 | |
硒化铟薄膜的制备及薄膜晶体管器件应用.p(4377KB) | -- | -- | 限制开放 | -- | 请求全文 |
个性服务 |
原文链接 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
导出为Excel格式 |
导出为Csv格式 |
Altmetrics Score |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[朴英哲]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[朴英哲]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[朴英哲]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
|
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论