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题名

一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法

发明人
第一发明人
钟志刚
申请人
深圳市恒永达科技股份有限公司;南方科技大学
第一申请人
深圳市恒永达科技股份有限公司
第一申请人地址
518100 广东省深圳市南山区西丽沙河西路5158号百旺研发大厦1栋1401-1
当前申请人
深圳市恒永达科技股份有限公司
当前申请人地址
518100 广东省深圳市南山区西丽沙河西路5158号百旺研发大厦1栋1401-1 (广东,深圳,南山区)
当前第一申请人
深圳市恒永达科技股份有限公司
当前第一申请人地址
518100 广东省深圳市南山区西丽沙河西路5158号百旺研发大厦1栋1401-1 (广东,深圳,南山区)
申请号
CN202210736223.9
申请日期
2022-06-27
公开(公告)号
CN115194563B
公开日期
2023-04-28
授权日期
2023-04-28
专利状态
授权
法律状态日期
2023-04-28
专利类型
授权发明
学校署名
其他
摘要

本发明中提供了一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法,毛细管内壁磁流体抛光控制系统包括磁流体抛光结构,包括供液组件、若干磁流体抛光支路和若干磁场组件,若干磁流体抛光支路均与供液组件连接,若干磁场组件一一对应设置于若干磁流体抛光支路处;控制模组,与磁流体抛光结构电连接;检测结构,一端与磁流体抛光结构连接,另一端与控制模组电连接;远程控制端,与控制模组通讯连接。实现多根毛细管同时磁流体抛光,并且适用于所有材质的毛细管,兼顾多种材质毛细管高效率内壁抛光,并且可以检测抛光过程中的多种数据,并且由控制模组或远程控制端显示和再调配,实现毛细管内壁抛光过程便捷可控,获知抛光数据,提升抛光品质。

其他摘要

本发明中提供了一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法,毛细管内壁磁流体抛光控制系统包括磁流体抛光结构,包括供液组件、若干磁流体抛光支路和若干磁场组件,若干磁流体抛光支路均与供液组件连接,若干磁场组件一一对应设置于若干磁流体抛光支路处;控制模组,与磁流体抛光结构电连接;检测结构,一端与磁流体抛光结构连接,另一端与控制模组电连接;远程控制端,与控制模组通讯连接。实现多根毛细管同时磁流体抛光,并且适用于所有材质的毛细管,兼顾多种材质毛细管高效率内壁抛光,并且可以检测抛光过程中的多种数据,并且由控制模组或远程控制端显示和再调配,实现毛细管内壁抛光过程便捷可控,获知抛光数据,提升抛光品质。

CPC分类号
B24B1/005 ; B24B31/112 ; B24B31/12 ; B24B49/00
IPC 分类号
B24B1/00 ; B24B31/112 ; B24B31/12 ; B24B49/00
语种
中文
INPADOC 法律状态
(+PATENT GRANT)[2023-04-28][CN]
INPADOC 同族专利数量
1
扩展同族专利数量
1
优先权日
2022-06-27
专利代理人
李晓凤
代理机构
深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙)
相关链接[来源记录]
来源库
PatSnap
成果类型专利
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/537567
专题南方科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
钟志刚,许修耀,李泽学,等. 一种毛细管内壁磁流体抛光控制系统及方法[P]. 2023-04-28.
条目包含的文件
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