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题名

一种具有双连续多孔结构的量子点薄膜的制备方法

发明人
第一发明人
王恺
申请人
南方科技大学
第一申请人
南方科技大学
第一申请人地址
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
当前申请人
南方科技大学
当前申请人地址
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
当前第一申请人
南方科技大学
当前第一申请人地址
518000 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号 (广东,深圳,南山区)
申请号
CN202010289474.8
申请日期
2020-04-14
公开(公告)号
CN111423873B
公开日期
2023-10-03
授权日期
2023-10-03
专利状态
授权
法律状态日期
2023-10-03
专利类型
授权发明
学校署名
第一
摘要
本发明提供一种具有双连续多孔结构的量子点薄膜的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)将第一嵌段共聚物与第二嵌段共聚物熔融混炼,冷却后得到混合料;(2)将量子点分散于溶剂中,得到量子点分散液,再向量子点分散液中加入步骤(1)得到的混合料,搅拌后去除溶剂得到嵌段共聚物修饰的量子点;(3)将步骤(2)得到的嵌段共聚物修饰的量子点熔融压片,退火后得到具有双连续多孔结构的量子点薄膜。所述制备方法制备得到的量子点薄膜可以充分吸收LED的蓝光,提高量子点荧光薄膜的荧光强度,制备高亮度的超薄量子点荧光薄膜,工艺简单,减少加工成本,实现显示器件的超薄化。
其他摘要
本发明提供一种具有双连续多孔结构的量子点薄膜的制备方法,所述制备方法包括以下步骤:(1)将第一嵌段共聚物与第二嵌段共聚物熔融混炼,冷却后得到混合料;(2)将量子点分散于溶剂中,得到量子点分散液,再向量子点分散液中加入步骤(1)得到的混合料,搅拌后去除溶剂得到嵌段共聚物修饰的量子点;(3)将步骤(2)得到的嵌段共聚物修饰的量子点熔融压片,退火后得到具有双连续多孔结构的量子点薄膜。所述制备方法制备得到的量子点薄膜可以充分吸收LED的蓝光,提高量子点荧光薄膜的荧光强度,制备高亮度的超薄量子点荧光薄膜,工艺简单,减少加工成本,实现显示器件的超薄化。
CPC分类号
C09K11/02 ; C09K11/883 ; C09K11/881 ; C09K11/661 ; C09K11/70 ; C09K11/665 ; B82Y20/00 ; B82Y30/00
IPC 分类号
C09K11/02 ; C09K11/88 ; C09K11/66 ; C09K11/70 ; B82Y20/00 ; B82Y30/00
INPADOC 法律状态
(+PATENT GRANT)[2023-10-03][CN]
INPADOC 同族专利数量
1
扩展同族专利数量
1
优先权日
2020-04-14
专利代理人
巩克栋 ; 潘登
代理机构
北京品源专利代理有限公司
相关链接[来源记录]
来源库
PatSnap
成果类型专利
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/639840
专题南方科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
王恺,刘皓宸,吴丹. 一种具有双连续多孔结构的量子点薄膜的制备方法[P]. 2023-10-03.
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