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题名

Optimizing Chip Sidewall Inclined Angle and Thickness for Enhanced Light Extraction Efficiency in AlGaN-based Deep Ultraviolet Micro-LEDs

作者
通讯作者Liu, Zhaojun
DOI
发表日期
2024
会议名称
International Conference on Display Technology, 2024
ISSN
0097-966X
EISSN
2168-0159
会议录名称
卷号
55
页码
1309-1311
会议日期
March 31, 2024 - April 3, 2024
会议地点
Hefei, China
出版者
摘要
In this paper, we systematically optimized the p-type layers thickness and sidewall inclined angle of flip-chip AlGaN-based deep ultraviolet Micro-LEDs using finite difference time-domain (FDTD) method, aiming to maximize light extraction efficiency (LEE). It was found that due to the reflection of electrodes, variation in the thickness of p-AlGaN and p-GaN causes oscillations in the light extraction efficiency, which is caused by destructive interference and constructive interference. Additionally, we found that a 40° sidewall inclination angle yields the maximum LEE, with a 40% enhancement over the vertical sidewall. These simulation results present potential avenues for improving the LEE of DUV Micro-LEDs.
© 2024 John Wiley and Sons Inc. All rights reserved.
学校署名
第一 ; 通讯
语种
英语
收录类别
资助项目
The authors gratefully acknowledge the contributions of Dr. Feng Feng.
EI入藏号
20243216809955
EI主题词
Aluminum gallium nitride ; Efficiency ; Extraction ; Finite difference time domain method ; Gallium nitride ; III-V semiconductors
EI分类号
Semiconducting Materials:712.1 ; Semiconductor Devices and Integrated Circuits:714.2 ; Chemical Operations:802.3 ; Inorganic Compounds:804.2 ; Production Engineering:913.1 ; Mathematics:921
来源库
EV Compendex
引用统计
成果类型会议论文
条目标识符http://sustech.caswiz.com/handle/2SGJ60CL/807102
专题南方科技大学
作者单位
Dept. of Electronic and Electrical Engineering, Southern University of Science and Technology, Shenzhen, China
第一作者单位南方科技大学
通讯作者单位南方科技大学
第一作者的第一单位南方科技大学
推荐引用方式
GB/T 7714
Wang, Juan,Hyun, Byung-Ryool,Liu, Zhaojun. Optimizing Chip Sidewall Inclined Angle and Thickness for Enhanced Light Extraction Efficiency in AlGaN-based Deep Ultraviolet Micro-LEDs[C]:John Wiley and Sons Inc,2024:1309-1311.
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